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LIBS-E900 实验室版LIBS分析系统

LIBS-E900实验室版LIBS分析系统采用完整、安全的外罩设计，便于运输和现场开箱即用，LIBS-E900相比于市面上已有的其他品牌的LIBS系统，其强大的优势在基于激光和视觉算法的自动对焦系统，对样品表面实时跟踪，实现LIBS的自动跟焦和Mapping。软件操作简单，一键即可实现全自动化测试，强大的视觉功能，可实现Mapping图，并自动完成谱图生成，并对样品元素成分分布进行伪色彩区分显示。

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LIBS-OL900工业在线LIBS分析系统

LIBS-OL900工业在线LIBS分析系统可对矿石/金属提炼等工业场景中如AL/Fe/Si等常规元素成分进行定性分析和定量测试。LIBS-OL900可针对不同用户场景进行定制化设计，以满足多样化的用户需求。LIBS-OL900采用自主研发的基于激光和视觉算法的自动对焦系统，对样品表面实时跟踪，实现LIBS的自动跟焦和Mapping。软件上配搭大数据模型，数据库比对，能够提升分析元素成本精度，从而

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LIBS-R900 科研版LIBS分析系统

LIBS-R900科研版LIBS分析系统采用完整、安全的外罩设计，便于运输和现场开箱即用，LIBS-R900相比于市面上已有的其他品牌的LIBS系统，其强大的优势在基于激光和视觉算法的自动对焦系统，对样品表面实时跟踪，实现LIBS的自动跟焦和Mapping。软件操作简单，一键即可实现全自动化测试，强大的视觉功能，可实现Mapping图，并自动完成谱图生成，并对样品元素成分分布进行伪色彩区分显示。此

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LIBS-Multi900多模组LIBS综合测试系统

LIBS-Multi900多模组LIBS综合测试系统是原子光谱和分子光谱的综合性测试系统，以应对特殊真空环境下为科研工作者带来多兼容性，可定制化的综合性测试系统。该系统以模块化的组件做集成和研发，应对复杂的实验条件，不同的实验需求可以做到一套系统满足大部分应用场景，且在软件上互通不受影响。

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真空互联原位光谱测试工作站

半导体生长与测量过程是在真空中进行，因此对于半导体生长与测量也可称为真空互联生长与测量系统。真空互联生长与测量系统通常包括三大类子系统：1）生长系统：MBE，MOCVD，磁控溅射，ALD等，2）表面形貌与能谱检测：SPM，AFM，角分辨光电子能谱和俄歇扫描显微镜，3）光谱学检测：PL稳态与瞬态光谱，高低温系统，Raman光谱等。惟光探真研制的真空互联原位光谱测试工作站，主要用于半导体晶圆缺陷，应力

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InSitu900原位光谱测试探头与系统

InSitu900 光谱探头与系统具有其高共聚焦性和高灵敏度，透过防护玻璃或窗口等遮挡物对样品进行测量，从而可以研究反应室或其他封闭空间内的物质和化学反应过程，获得反应过程中的真实可靠数据、动态变化信息、非平衡或瞬态信息，同时还避免了非原位测试由于样品制备和转移等步骤所带来的污染、迟豫和不可逆性等问题，这将大大助力艺术、考古学、地质学或材料科学领域的化学结构探索。此外InSitu900不但可以对样品进行原位的PL光谱，Raman光谱进行测量，也可以升级到时间分辨Raman等功能，有效避开荧光干扰，还包括LIBS原子光谱。

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空间环境地面模拟与原位光谱测试工作站

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宽场荧光显微镜

惟光开发的宽场荧光显微镜是以自动化显微镜模组为基础，针对SiC等化合物半导体样品，分析样品中的晶圆位错、层错等晶格缺陷分布。宽场荧光显微镜可以进行非接触、无损、整晶圆检测，无须化学腐蚀、解理等样品前处理工艺，自主研制的激光辅助离焦量传感器，可在紫外激发光照射样品并采集荧光信号的同时工作，实现自动聚焦和表面跟踪，加上全自动化的软件操作，用户可以轻松快捷的完成测样。

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自动对焦显微镜

惟光探真开发出的自动对焦显微镜，可以满足半导体集成电路工艺线从表面缺陷检查到图形尺寸测量等各环节自动化视觉检测需求。我们的自动对焦显微镜具有自动聚焦功能，可在无图案晶圆上实现自动聚焦和表面跟踪，此外还可以通过软件控制，实现自动调焦、寻区、切换物镜等功能，加大的节省了用户操作时间，具有极佳的操作便利性。

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