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苏州惟光探真科技有限公司
半导体光学检测系统
LDW900 3D激光直写系统

LDW900 3D激光直写系统是利用聚焦后的激光束与材料发生局部相互作用,实现微米至纳米尺度三维结构制备的微纳加工设备,本质是通过精确控制激光能量的空间分布和材料的响应区域,将数字三维模型“直接书写”到材料中,无需光刻掩模,兼具高分辨率、结构自由度高(可制备复杂悬空、多孔、异质结构)和工艺灵活性强(无需复杂掩模设计)的优势,广泛应用于微纳光学、生物医疗、微电子、量子器件等领域。

产品咨询
产品概述
(一)主要性能特点:
超高三维加工精度;
加工过程“非接触、低损伤”;
无需掩模即可直接制备任意复杂三维结构;
可加工材料范围广;
可明场成像和暗场成像自动切换;
具有自动对焦功能,寻找最佳图像;
自动化软件控制。
(二)光路示意图
(三)产品技术规格

设备名称

配置与性能

3D激光直写系统(型号:LDW900)

显微成像模组

白光LED照明;可明场和暗场成像,并自动切换;500万像素高分辨率成像相机;

翘曲度模块(激光自动对焦),100x下自动对焦精度0.06um;

标配图像自动对焦(结合激光自动对焦,寻找最佳图像);

6孔可调中心手动切换转塔,物镜5X/20x/50x/100x不同倍率可选;

100x油浸物镜

波长范围380 – 900 nm,NA 1.3;

高精度Z轴对焦器,分辨率<0.1um,重复定位精度 < 0.5um;

XYR平移和旋转台台

XY方向重复定位精度≤±2um;最大速度50mm/s;R轴旋转轴,重复定位精度≤±3 角秒;

压电位移台(可选)

高负载高速XY平面运动,XY扫描运动范围100微米,闭环分辨率优于1nm,最大负载5kg

激光器

激光器中心波长:1030nm

输出功率:>=20W@ 50-200KHZ, >400uJ@1-50KHz

脉宽:< 290fs

控制软件

对表面进行激光自动对焦,保持激光聚焦光斑一致性,克服表面翘曲的影响; 按照一定路径控制XY平移台进行运动,实现加工图案。集成光栅刻写程序,包括逐点法和逐线法程序,实现普通均匀光栅/倾斜光栅/相移光栅/切趾光栅的刻写; 根据STL文件,实现3D运动,实现3D打印的图案。



智能化软件平台和模块化设计
  • 统一的软件平台和模块化设计
  • 良好的适配不同的硬件设备:平移台、显微成像装置、光谱采集设备、自动聚焦装置等
  • 成熟的功能化模块:晶圆定位、光谱采集、扫描成像Mapping、3D层析,Raman Mapping,FLIM,PL Mapping,激光直写、光电流Mapping等。
  • 智能化的数据处理模组:与数据拟合、机器学习、人工智能等结合的在线或离线数据处理模组,将光谱解析为成分、元素的分布等,为客户提供直观的结果。可根据客户需求定制光谱数据解析的流程和模组
  • 可根据客户需求进行定制化的界面设计和定制化的RECIPE流程设计,实现复杂的采集和数据处理功能。


控制软件界面:
应用领域
  • 微纳光学:如制备微透镜阵列、超表面(用于超分辨成像、偏振调控)、光子晶体(用于光通信)。
  • 生物医疗:如制备三维细胞支架(模拟人体组织微环境)、微流控芯片(用于疾病诊断、药物筛选)、纳米载药系统(精准递送药物)。
  • 微电子与量子器件:如制备微型传感器(如压力、温度传感器)、量子点阵列(用于量子计算、量子通信)、微型天线(用于物联网设备)。
  • 艺术与微制造:如制备“微雕艺术品”(如纳米尺度的雕塑、图案)、微型机械零件(如微型齿轮、轴承)




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