各位朋友们,大家好。
在前面的八辑与公众号其他内容中,我们分享了SR900全功能型共聚焦Raman光谱系统在很多不同材料应力测试上的应用。
例如,
第三代半导体材料与晶圆SiC,GaN以及AlN(我司与纳米所用户合作发表的文章,可以翻阅此前的公众号内容)
第二代半导体材料与晶圆GaAs和InP上
Si基芯片应力测试
还包括碳纤维复合材料CFRP,但是限于保密关系无法分享。
那么这些所有的测试,重复性,长期稳定性都非常关键,这也是最考验研发功底与迭代能力之处,很多的改进都会着眼于细节,我司核心人员从业经历接近20年,见过了太多的设备,由于长期稳定性与重复性无法得到保证,今天测试与半个月后测试甚至于一周内的测试数据都会有漂移,因此数据的信度无法得到彻底的保障。
因此在本期,我司也斗胆分享我司的第二代SR900长期稳定性测试数据,供大家批评指教。
如大家所知道的,之前的数据测试,部分是基于我司第一代SR900测试的数据,部分是基于我司第二代SR900得到的数据,在SR900不断迭代进阶的过程中,长期稳定性,重复性等都不断得到提高并且用于接受用户更大的挑战。
目前我司的SR900已经迭代到第三代,达到了更高的稳定性与重复性以及信噪比。
本期的数据,主要是基于第二代SR900获取的,仅供参考。
我司分别在2天内,选择了不同的8小时进行长期测试。
首先我们采用标准硅样品进行长期稳定性测试。
测试参数如下:
激光:532nm
物镜:100X
扫描范围: 50*50 μm
扫描点数:10*10
光谱仪:国产光谱仪,1800 gr/mm光栅,100μm狭缝
同区域每隔半小时左右测试一次
自动对焦打开
测试时间段:2025年5月13日13:45-22:00,10个小时左右。
数据处理方法:
每个数据对硅一阶峰进行高斯-洛伦兹拟合(拟合区间400-600cm-1),导出100个数据点的峰高和峰位值,并统计其平均值
我们得到了如下的数据并且进行了分析。
得到的数据如图1和表1所示。
表1. 长期稳定性测试数据
图1. 第二代SR900-8小时长期稳定性测试(Si标样)
随后,我们在第二天,又采用SiC进行了相关测试。
测试参数:
激光:532nm
物镜:100X
扫描范围: 50*50 μm
扫描点数:10*10
光谱仪:国产光谱仪,1800 gr/mm光栅,100μm狭缝
同区域每隔半小时左右测试一次
自动对焦打开
测试时间段:2025年5月14日18:50- 2025年5月15日02:50,8个小时。
数据处理方法:
每个数据对碳化硅785cm-1峰进行高斯-洛伦兹拟合(拟合区间700-900cm-1),导出100个数据点的峰高和峰位值,并统计其平均值
我们得到了如下的数据并且进行了分析。
得到的数据如图2和表2所示。
表2. 长期稳定性数据
图2. 第二代SR900-8小时长期稳定性测试(SiC)
当然,其实我们的测试不止于此,还有很多的数据,限于篇幅的关系,无法一一和您进行分享,如果您有需要,可以拿着样品进行测试,相信我们的设备经得起您的考验与考察。
以上就是我们要分享的几个月前测试的第二代SR900长期稳定性数据啦。
当然,其实现在我们要交付的设备已经是第三代的版本了,本着销售一代,研发一代,预研一代的目标和步骤,我们在不断前进。
后续有更新的数据,再和各位分享啦。