5月12日，中国化学会第一届全国表界面科学会议在四川成都天府国际会议中心圆满落下帷幕。作为表界面科学领域的全国性盛会，本次会议吸引了来自高校、科研院所及企业的千余名专家学者、青年学生及企业代表参会，围绕新能源、原子制造、先进半导体等国家重大战略需求的共性科学基础展开深入交流。表界面科学是新能源、原子制造、先进半导体等领域的共性理论研究基础，其理论突破与技术创新对未来产业升级具有战略意义。此次会议的成功举办，标志着我国表界面科学研究正从基础探索向应用转化加速迈进。

作为会议的重要参与者，惟光探真携其创新产品与技术解决方案亮相展会，成为会场关注的焦点之一。其中在大会科学仪器第18分会，我司受邀做了晶圆级与超宽禁带半导体光电测试与解决方案的报告，围绕第三代半导体检测的难点，汇报了我司在该领域的技术优势和创新性的解决方案。

作为会议的重要参与者，惟光探真携其创新产品与技术解决方案亮相展会，成为会场关注的焦点之一。其中在大会科学仪器第18分会，我司受邀做了晶圆级与超宽禁带半导体光电测试与解决方案的报告，围绕第三代半导体检测的难点，汇报了我司在该领域的技术优势和创新性的解决方案。

当然，我司的产品不止聚焦于半导体检测领域，基于我司的三大核心技术优势，我们在原位与真空、元素分析（LIBS技术）、拉曼光谱与成像、荧光光谱等领域不断推出新的产品，目标是围绕行业发展的痛点难点，进口仪器卡脖子的困境，推动国产设备从“替代进口”向“引领创新”跃迁。

最后感谢中国化学会第一届全国表界面科学会议会务组的邀请，很荣幸参加了这次学术盛会，让我们对表界面科学有了更深刻的认识。惟光探真愿与学术界携手，共同攻克表界面科学发展的关键难题，为“新质生产力”发展贡献自己的力量。